* MMF(Multi Media Filter)
처리 공법상 물리적 처리의 여과에 속하는 처리 공법으로 내부여재로 Anthracite, Sand, Gravel을 충진하여 원수중에 함유된 부유성 물질을 제거함을 목적으로 하고 있으며, 여과는 다음의 3가지 원리로 이루어진다.
1) 운반메카니즘 (Transport Mechanism) :
- -여재 공극사이로 불순물을 운반하여 기존 침적물과 여재 표면에 접촉 하도록 함.
2) 부착메카니즘 (Attachment Mechanism) :
- -운반된 불순물 등의 기존 침적물과 여재표면에 부착 시킴.
3) 탈착메카니즘 (Detachment Mechanism) :
- -여재 중 사이로 물이 흐르면서 수력에 의하여 불순물등의 탈착을 유도.
* ACF(Activated Carbon Filter)
활성탄(Activated Carbon)은 비결정성 탄소를 주로 하는 흡착제로서 대단히 큰 비표면적과 흡착능력을 갖고 있다 원수중의 잔류염소나 기타 유기화합물 처리에 활용된다.
활성탄은 5Å~150Å의 미세한 다공질로 되어있어, 600~1500㎡/1g 의 표면적을 가지고 있으므로 수중에 용해되어 있는 미량의 유기물질에 대하여 제거능력이 크고, 약품처리공정의 경우 약품 처리수중에 분해물을 남기지 않으며, 다른 비전해질 현탁물까지도 제거한다.
* HEX(Heat Exchanger), CL(Cool Exchanger)
열교환기는 스테인레스등의 금속판을 유로가 현성되도록 설계한 금형과 고압프레스로 성형하여 만든 전열판과 각 판 사이에 유체흐름과 밀봉을 위해서 제작한 특수 Gasket을 전열용량에 따라 산출된 매수만큼 양단에 설치한 프레임 사이에 적층하여 볼트로 조이게 되면 전열판의 면과 가스켓에 의해서 2개의 상반된 유체가 흐를수 있는 유로가 형성하게된다.
이 유로를 통하여 고,저온의 유체가 통과하게 되면 강한 난류에 의하여 급속하게 열교환이 이루어지게 되어 목적하는 수온을 유지 시켜준다. Heat Exchanger는 스팀을 이용하여 가온을 목적으로하고, Cool Exchanger는 냉각수를 이용하여 수온냉각을 목적으로 사용된다.
* SOF(Softener)
경수연화라고도 하며 경수(센물)를 부드러운 연수상태로 만들기 위하여 경수를 Na형의 양이온교환수지에 통과시켜 원수중의 경도성분인 칼슘(Ca+), 마그네슘(Mg²+)을 수지중의 나트륨이온(Na+)과 교환하여 연수를 제조.
* SF(Micro Filter), BF(Bag Filter)
일반적으로 장치 구성에 따라서 0.2~5㎛의 이물질과 부유입자등을 제거하고 전단 설비의 문제발생시와 후단설비를 보호할 목적으로 사용된다.
* TU & UV(TOC UV & UV Sterilizer)
TOC UV 는 Electrical Cabinet가 장착되어 자외선 파장이 초단파인 185nm을 방출하여 TOC잔류 성분을 분해시키며, UV Sterilizer는 단파인 254를 방출하여 박테리아를 살균 및 증식을 방지한다.
* R/O(Reverse Osmosis Unit)
역삼투압(Reverse Osmosis)의 원리를 이용하여 원수중의 무기물질, 천연수중에 다수함유된 Humic Acid, Sulfonic Acid 등의 유기물, 전처리장치에서 누설되는 미립자 등을 제거하고, 탈염능력을 이용하여 초순수 및 이온교환장치에서의 부하를 감소시켜서 고순도의 채수를 용이하게 한다. 일반적으로 R/O Membrane을 통과하면서 SO4--, Cl-, HCO3-, NO3-, SiO2등의 음이온 성분 및 Ca++, Mg++, Na+, K+ 등의 양이온 성분을 97% 이상 제거한다.
* EDI(Electro-De-Ionization System)
Electro-De-Ionization는 이온교환막과 이온교환 수지, 전극으로 구성되어 있으며 직류전원 공급만으로 유입수중에 용존되어 있는 이온성 물질을 제거시킬 수 있는 고 효율 순수제조 장치 입니다. 또한 이온교환수지 만을 사용하고 있는 기존 순수제조 설비(Ion Exchanger)보다 운전 및 유지보수가 간단하고 재생폐액이 발생되지 않아 매우 경제으로 운용할 수 있습니다.
양이온교환막은 음이온 활성기를 가지고 있어 정전기적으로 양이온만을 선택적으로 통과 시키고 음이온교환막은 양이온 활성기를 가지고 있어 정전기적으로 음이온만을 선택적으로 통과 시킴니다.
직류전원을 공급하면 수중의 양이온은 양이온 교환막을 통과하여 음극방향으로 이동하고 음이온은 음이온 교환막 통과하여 양극방향으로 이동 합니다. 직류전원은 물(H2O)를 H+와 OH-로 분해시켜 이온수지를 전기적으로 분해하며 고순도의 순수를 생성합니다. 이온이 제거된 희석실에서는 순수가 생산되고, 이온이 농축된 농축실에서는 농축기가 배출되어나 순환 됩니다.
* MDG(Membrane De-Gasifier)
가스이동의 원리는 대기중의 가스는 평형상태를 이룰 때까지 물속으로 녹아 들어간다. 진공이나 혹은 스트립 가스가 작용할때 이러한 기체와 액체간의 평형 상태는 깨어지게 되고 이렇게 될때 액체속에 용존해 있던 가스는 기체 상태로 이동이 되는 힘이 생기게 된다.
가스의 분압을 변화 함으로써 용존가스를 기체로 주입하거나 제거 할 수 있다. 분압이 낮으면 가스는 물에서 제거 되고 분압을 높이면 가스는 물에 용존 된다.
* MBP(Mixed Bed Polisher)
이온교환수지에 공급수중의 이온이 흡착하여 탈염되어 고순도의 초순수가 생산 된다. 이온 선택성에 의해 공급수에 함유된 양이온은 양이온교환수지층에 흡착하여 H+이온을 생성하고, 이와 반대로 음이온은 음이온교환수지층에 흡착하여 OH-이온을 생성한다. 이렇게 생성H+이온과 OH-이온은 높은 수준의 탈염이 가능하다.

공급수가 탈염실내를 이동함에 따라 탈염이 진행되고, 물의 비저항을 높여주기 때문에, 공급수중의 이온으로는 전류를 흐르게 하는것이 곤란해지고, 물자체가 분열하여, H+ 이온과 OH- 이온을 생성 한다. 물분열에 의해 생성된 H+ 이온과, OH- 이온은 탈염실내의 이온교환수지를 항상 재생상태로 유지하므로, 높은 수준의 탈염이 가능하게 됩니다. MB Polisher을 통과하면서 17㏁.cm 이상의 고순도의 초순수를 얻을 수 있다.
* UF(Ultra Filter)
15㏁ cm이상되는 초순수는 한외여과법(Ultra Filtration)을 이용하여 용액 중에 포함된 저분자에서 고분자 물질 등의 용질과 입자에 이르기까지 불순물을 제거하게 되며, 한외여과(Ultra Filter)막의 성능은 분획분자량(MWCO, Molecular Weight Of Cut-Off)으로 나타내는데 그 막의 분획분자량 이하의 분자량에 해당하는 물질은 막을 통해 투과되고 그 분자량 이상의 물질은 배제되는 것을 의미한다.
U/F Membrane 의 Pore Size가 6000MW서 공급수의 90% 이상을 생산수로 회수하는 설비.