초순수시스템

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초순수시스템

초순수시스템 UPW

초순수(UPW) 시스템은 유입수를 전처리시스템과 순수시스템을 거쳐 생산된 순수를 기반으로 하여
사용처(POINT OF USE)의 요구수질에 맞추기 위해 필요로 하는 장치들을 추가적으로 배치하여
초순수를 생산 공급합니다.

기 생산된 순수의 전기저항치를 초순수 등급으로 올리기 위한 전기탈이온장치(MDI/EDI)와
혼상수지탑(MB POLISHER), TOC 저감을 위한 TOC UV, 최종적으로 PARTICLE을 제어하기 위한
막시스템(UF) 등
과 같은 기자재를 목표수질에 부합되도록 가감하여 시스템이 구성됩니다.

초순수 수질 ( Quality of UPW )

DESIGN RULE
(device)
ITEM
0.8 ㎛ 0.5 ㎛ 0.5 ㎛ 0.25 ㎛ NPCO
(4MDRAM) (16MDRAM) (64MDRAM) (256MDRAM) ACTUAL
RESISTIVITY MΩ·㎝ >18.0 >18.1 >18.2 >18.2 >18.2
BACTERIA pcs. / I <5 <1 <1 <1 <0.1
DISOLVED OXYGEN ㎍ / I <20 ~ 50 <10 <5 <2 <1
TOC ㎍ / I <10 ~ 20 <2 <1 <0.5 <0.5
TOTAL SILICON ㎍ / I <1 ~ 3 <0.5 <0.1 <0.1 <0.1
PARTICLES >0.2㎛ >pcs. / m I <1 ~ 3 <0.5 <0.1 <0.1 <0.1
>0.1㎛ >pcs. / m I <10 <5 <1 <0.1 <0.1
>0.05㎛ >pcs. / m I - <10 <5 <1 <1
>0.03㎛ >pcs. / m I - - <10 <5 <10
METAL
(Na, Fe, Cu, Ni, AL Mg etc.)
㎍ / I <0.1 <0.05 <0.01 <0.005 <0.002
ION
(CL, SO4, etc.)
㎍ / I <0.1 <0.05 <0.01 <0.005 <0.005
RESIDUE AFTER EVAP ㎍ / I - <10 <1 <0.05 <0.02